| 标题 |
Dual Al₂O₃/Hf₀.₅Zr₀.₅O₂ Stack Thin Films for Improved Ferroelectricity and Reliability |
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:IEEE Electron Device Letters 作者:Yu-Chun Li; Xiao-Xi Li; Mao-Kun Wu; Bo-Yao Cui; Xue-Pei Wang; et al 出版日期:2022-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人或该文件上传人下载。 |
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)