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标题
Electron-beam induced photoresist shrinkage influence on 2D profiles
电子束诱导光刻胶收缩对二维轮廓的影响
相关领域
收缩率 抵抗 光刻胶 平版印刷术 材料科学 极紫外光刻 光刻 临界尺寸 薄脆饼 光学 电子束光刻 光电子学 纳米技术 复合材料 物理 图层(电子)
网址
DOI
10.1117/12.846991 doi
其它 期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者:Benjamin Bunday; Aaron Cordes; John A. Allgair; Daniel Angel Bellido-Aguilar; Vasiliki Tileli; et al
出版日期:2010-03-11
求助人
青红造了个白 在 2025-05-13 09:56:32 发布自广东,悬赏 20 积分
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