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标题
Low-pressure CVD grown Si-doped β-Ga2O3 films with promising electron mobilities and high growth rates
低压CVD生长具有良好电子迁移率和高生长速率的Si掺杂β-Ga2O3薄膜
相关领域
兴奋剂 动性 材料科学 电子 化学气相沉积 电子迁移率 分析化学(期刊) 光电子学 化学 物理 环境化学 社会科学 量子力学 社会学
网址
DOI
10.1063/5.0245559 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Saleh Ahmed Khan; Ahmed Ibreljic; Stephen Margiotta; A F M Anhar Uddin Bhuiyan
出版日期:2025-01-02
求助人
冷傲新柔 在 2025-07-09 01:35:41 发布自浙江,悬赏 10 积分
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