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 Extreme ultraviolet mask multilayer material variation impact on horizontal to vertical pattern bias 极紫外掩模多层材料变化对水平到垂直图案偏置的影响
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期刊： 作者：Qiliang Yan; Lawrence S. Melvin; Yudhishthir Kandel; Weimin Gao; Artak Isoyan 出版日期：2018-03-19 |
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