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High aspect ratio SiO2/SiN (ON) stacked layer etching using C3HF5, C4H2F6, and C4H4F6 |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Chihiro Abe; Toshiyuki Sasaki; Y. Kondo; Seiya Yoshinaga; Shuichi Kuboi; et al 出版日期:2024-05-23 |
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