| 标题 |
200Gb/s PAM4 oxide VCSEL development progress at Broadcom |
| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.3041371
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| 其它 |
期刊: 作者:Jingyi Wang; M. V. R. K. Murty; S Jiang; David W. Dolfi; Tuo Wang; et al 出版日期:2025-03-19 |
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(2025-6-4)