Infrared spectroscopic analysis of the Si/SiO2 interface structure of thermally oxidized silicon

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标题	Infrared spectroscopic analysis of the Si/SiO2 interface structure of thermally oxidized silicon
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.372017
DOI	10.1063/1.372017 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：K. T. Queeney; M. K. Weldon; J. P. Chang; Y. J. Chabal; A. B. Gurevich; et al 出版日期：2000-02-01
求助人	小浪矢在 2026-09-03 22:57:42 发布自重庆，悬赏 10 积分
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