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  Performance Analysis of GaN/AlGaN HEMTs Passivation using Inductively Coupled Plasma Chemical Vapour Deposition and Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition Techniques 电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术钝化GaN/AlGaN HEMTs的性能分析
相关领域
钝化
等离子体增强化学气相沉积
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期刊：Defence Science Journal 作者：Sunil Kumar; Amit Malik; D. S. Rawal; Seema Vinayak; Hitendra K. Malik 出版日期：2018-10-31 |
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