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标题
Properties of Silicon Dioxide Film Deposited By PECVD at Low Temperature/Pressure
低温/低压PECVD沉积二氧化硅薄膜的性能
相关领域
材料科学 等离子体增强化学气相沉积 椭圆偏振法 硅烷 折射率 傅里叶变换红外光谱 薄膜 氧化硅 化学气相沉积 沉积（地质） 分析化学（期刊） 硅 体积流量 二氧化硅 光电子学 复合材料 光学 纳米技术 氮化硅 古生物学 物理 化学 色谱法 沉积物 生物 量子力学
网址
https://doi.org/10.5937/metmateng1402089m
AI链接 metall-mater-eng.com doaj.orgdoi.org
DOI
10.5937/metmateng1402089m doi
其它 期刊：Metallurgical and Materials Engineering
作者：Meysam Zarchi; Shahrokh Ahangarani; Maryam Zare Sanjari
出版日期：2014-07-30
求助人
鲤鱼紫易 在 2025-09-12 15:39:55 发布自湖南，悬赏 10 积分
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