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 Properties of Silicon Dioxide Film Deposited By PECVD at Low Temperature/Pressure 低温/低压PECVD沉积二氧化硅薄膜的性能
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期刊：Metallurgical and Materials Engineering 作者：Meysam Zarchi; Shahrokh Ahangarani; Maryam Zare Sanjari 出版日期：2014-07-30 |
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