Characterization of Shallow, Undoped Ge/SiGe Quantum Wells Commercially Grown on 8-in. (100) Si Wafers

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标题	Characterization of Shallow, Undoped Ge/SiGe Quantum Wells Commercially Grown on 8-in. (100) Si Wafers 商业生长在8英寸上的浅未掺杂Ge/SiGe量子阱的表征。(100)Si晶片相关领域薄脆饼材料科学异质结量子阱光电子学表征（材料科学）电子迁移率分子束外延纳米技术图层（电子）外延光学物理激光器
网址	https://doi.org/10.1021/acsaelm.2c00733 AI链接 osti.govdoi.org
DOI	10.1021/acsaelm.2c00733 doi
其它	期刊：ACS Applied Electronic Materials 作者：Troy A. Hutchins-Delgado; A. Miller; Robin Scott; Ping Lu; Dwight Luhman; et al 出版日期：2022-09-02
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