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 Design and Performance Assessment of HfO2/SiO2 Gate Stacked Ge/Si Heterojunction TFET on SELBOX Substrate (GSHJ-STFET) SELBOX衬底上HfO2/SiO2栅堆叠Ge/Si异质结TFET（GSHJ-STFET）的设计与性能评估
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期刊：Silicon 作者：Ashish Kumar Singh; Manas Ranjan Tripathy; Kamalaksha Baral; Satyabrata Jit 出版日期：2022-05-02 |
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