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 Effect of thickness-dependent crystal mosaicity and chemical defect on electric properties in yttrium-stabilized epitaxial HfO2 thin films 厚度相关的晶体镶嵌性和化学缺陷对氧化镁稳定性磊晶OfO2薄膜电性能的影响
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Wenlong Liu; Ming Liu; Sheng Cheng; Ruyi Zhang; Rong Ma; et al 出版日期：2017-03-20 |
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