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 Origin of Ferroelectric Phase in Undoped HfO2 Films Deposited by Sputtering 溅射沉积未掺杂HfO2薄膜中铁电相的起源
相关领域
材料科学
铁电性
溅射
正交晶系
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光电子学
分析化学（期刊）
衍射
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期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Terence Mittmann; Monica Materano; Patrick D. Lomenzo; Min Hyuk Park; Igor Stolichnov; et al 出版日期：2019-04-29 |
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