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标题
Reactive plasma sputtering deposition of polycrystalline GaN thin films on silicon substrates at room temperature
相关领域
材料科学 薄膜 溅射 镓 纤锌矿晶体结构 无定形固体 溅射沉积 硅 微晶 多晶硅 分析化学（期刊） 光电子学 纳米技术 结晶学 冶金 图层（电子） 化学 锌 薄膜晶体管 色谱法
网址
https://doi.org/10.1116/6.0002718
DOI
10.1116/6.0002718 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Lakshman Srinivasan; Cyril Jadaud; François Silva; Jean‐Charles Vanel; Jean‐Luc Maurice; et al
出版日期：2023-07-14
求助人
贤惠的如松 在 2025-11-03 10:54:09 发布自上海，悬赏 10 积分
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