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标题
Challenges of Gate Stack TDDB in Gate-All-Around Nanosheet Towards Further Scaling
全栅极纳米片中栅极堆叠TDDB对进一步扩展的挑战
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网址
https://doi.org/10.1109/irps48228.2024.10529474
DOI
10.1109/irps48228.2024.10529474 doi
其它 期刊：2022 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS)
作者：Huimei Zhou; Miaomiao Wang; Ernest Y. Wu
出版日期：2024-04-14
求助人
车车 在 2025-05-10 20:21:37 发布自陕西，悬赏 10 积分
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