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标题
Patterning assessment using 0.33NA EUV single mask for next generation DRAM manufacturing
用于下一代DRAM制造的0.33NA EUV单掩模图案化评估
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2660763
DOI
10.1117/12.2660763 doi
其它 期刊：
作者：Jeonghoon Lee; Sandip Halder; Van Tuong Pham; Roberto Fallica; Seonggil Heo; et al
出版日期：2023-04-28
求助人
发嗲的戎 在 2025-05-23 00:26:14 发布自天津，悬赏 20 积分
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