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标题
Conduction mechanisms in thin atomic layer deposited Al2O3 layers
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DOI
10.1063/1.4829910 doi
其它 期刊:Journal of Applied Physics
作者:Holger Spahr; Sebastian Montzka; Johannes Reinker; Felix Hirschberg; Wolfgang Kowalsky; et al
出版日期:2013-11-14
求助人
夏娜是锉刀 在 2026-11-04 18:57:18 发布自江苏,悬赏 10 积分
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