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Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of Conductive Hafnium Nitride Using Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium for CMOS Gate Electrode Applications |
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期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:S. Consiglio; Wanxue Zeng; N. Berliner; E. Eisenbraun 出版日期:2008-03-01 |
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