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Investigation of the effect of adding a moderate amount of hydrogen on the properties of tin oxide films deposited by DC magnetron sputtering
相关领域
溅射沉积 腔磁控管 材料科学 氧化物 溅射 氧化锡 分析化学(期刊) 冶金 化学工程 化学 薄膜 纳米技术 色谱法 有机化学 工程类
网址
DOI
10.35848/1347-4065/abf49d doi
其它 期刊:Japanese Journal of Applied Physics
作者:Rostislav Velichko; Yusaku Magari; Hisao Makino; Mamoru Furuta
出版日期:2021-04-30
求助人
喳喳 在 2023-03-21 10:44:15 发布自广东,悬赏 10 积分
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