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[高分]
 Etching Characteristics and Mechanism of SiN<SUB><I>x</I></SUB> Films for Nano-Devices in CH<SUB>2</SUB>F<SUB>2</SUB>/O<SUB>2</SUB>/Ar Inductively Coupled Plasma: Effect of O<SUB>2</SUB> Mixing Ratio 相关领域
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期刊：Journal of Nanoscience and Nanotechnology 作者：Jin-Young Son; Alexander Efremov; Sun Jin Yun; Geun Young Yeom; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2014-09-25 |
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