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[高分] Establishing a sidewall image transfer chemo-epitaxial DSA process using 193 nm immersion lithography
用193 nm浸没法建立侧壁图像转移化学外延DSA工艺
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期刊: 作者:Guido Rademaker; A. Le Pennec; Tommaso Jacopo Giammaria; K. Benotmane; H.T.M. Pham; et al 出版日期:2020-04-03 |
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