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标题
Influence of photoresist thinning and underlayer film on e-beam using eP5 for high-NA patterning
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2641768
DOI
10.1117/12.2641768 doi
其它 期刊：
作者：Mahmudul Hasan; Christophe Béral; Gian F. Lorusso; Danilo De Simone; Alain Moussaa; et al
出版日期：2022-11-10
求助人
酷炫念柏 在 2025-10-25 16:56:56 发布自上海，悬赏 30 积分
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