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  Effect of Nitrogen on the Physical Properties and Work Function of MoNxCap Layers on HfO2Gate Dielectrics 氮对HfO 2栅介质上MoNxCap层物理性质和功函数的影响
相关领域
材料科学
工作职能
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期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Shin-Yu Lin; Yi-Sheng Lai 出版日期：2014-10-17 |
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