Improvement of SiC deposition uniformity in CVD reactor by showerhead with baffle

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标题	Improvement of SiC deposition uniformity in CVD reactor by showerhead with baffle 带挡板喷头改善CVD反应器SiC沉积均匀性相关领域迷惑沉积（地质）材料科学基质（水族馆）增长率复合材料化学气相沉积化学光电子学化学工程几何学地质学数学工程类古生物学海洋学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2023.127255
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2023.127255 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Qizhong Li; Yixuan Zhang; Baifeng Ji; Song Zhang; Rong Tu 出版日期：2023-05-09
求助人	安静的磬在 2025-09-30 15:40:21 发布自上海，悬赏 10 积分
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