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  Genetic algorithm-based optical proximity correction for DMD maskless lithography 基于遗传算法的DMD无掩模光刻光学邻近校正
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期刊：Optics Express 作者：Zhuojun Yang; Jie Lin; Liwen Liu; Zhu Zicheng; Rui Zhang; et al 出版日期：2023-06-22 |
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