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标题
Improvement of GaN plasma etching uniformity by optimizing the coil electrode with plasma simulation and experimental validation
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DOI
10.1016/j.surfcoat.2020.126252 doi
其它 期刊:Surface and Coatings Technology
作者:Dezhi Xiao; Qingdong Ruan; Liangliang Liu; Jie Shen; Cheng Cheng; Paul K. Chu
出版日期:2020-08-02
求助人
含糊的雨安 在 2026-04-13 20:44:13 发布自上海,悬赏 10 积分
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