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标题
5.1 Å EOT and low leakage TiN/Al2O3/Hf0.5Zr0.5O2/Al2O3/TiN heterostructure for DRAM capacitor
网址
DOI
10.1063/5.0145824 doi
其它 期刊:Applied Physics Letters
作者:Zhen Luo; Xinzhe Du; Hui Gan; Yue Lin; Wensheng Yan; et al
出版日期:2023
求助人
photogragher 在 2026-06-04 11:29:36 发布自福建,悬赏 10 积分
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