Advanced Defects Study and Monitoring in New Generation 4H-SiC Devices - 科研通

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标题	Advanced Defects Study and Monitoring in New Generation 4H-SiC Devices
网址	https://www.scientific.net/DDF.452.39.pdf
DOI	10.4028/p-szxkd4 doi
其它	期刊：Defect and Diffusion Forum 作者：Nicolo Piluso; Cristiano Calabretta; Fabiana Vento; Ruggero Anzalone; Chiara Nania; et al 出版日期：2026-05-14
求助人	Angus 在 2026-06-09 17:33:30 发布自中国台湾，悬赏 30 积分
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