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Formation of a SiOF reaction intermixing layer on SiO2 etching using C4F6/O2/Ar plasmas |
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者:Yoshinobu Ohya; Maju Tomura; Kenji Ishikawa; Makoto Sekine; Masaru Hori 出版日期:2016-05-17 |
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(2025-6-4)