Novel Organosilicate Polymer Resists for High Resolution E-Beam Lithography

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标题	Novel Organosilicate Polymer Resists for High Resolution E-Beam Lithography 用于高分辨率电子束光刻的新型有机硅酸盐聚合物抗蚀剂相关领域抵抗倍半硅氧烷氢材料科学聚合物降冰片烯平版印刷术纳米技术倍半硅氧烷聚合电子束光刻光电子学复合材料图层（电子）
网址	https://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/cm9035456
DOI	暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？ AI识别 10.1021/cm9035456 doi
其它	Sim J H, Lee S-I, Lee H-J, Kasica R, Kim H-M, Soles C L, et al. Novel Organosilicate Polymer Resists for High Resolution E-Beam Lithography [J]. Chemistry of Materials, 2010, 22(10): 3021-3023
求助人	大洁在 2025-07-07 13:25:05 发布自山东，悬赏 10 积分
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