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 Novel Organosilicate Polymer Resists for High Resolution E-Beam Lithography 用于高分辨率电子束光刻的新型有机硅酸盐聚合物抗蚀剂
相关领域
抵抗
倍半硅氧烷氢
材料科学
聚合物
降冰片烯
平版印刷术
纳米技术
倍半硅氧烷
聚合
电子束光刻
光电子学
复合材料
图层（电子）
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| 其它 |
Sim J H, Lee S-I, Lee H-J, Kasica R, Kim H-M, Soles C L, et al. Novel Organosilicate Polymer Resists for High Resolution E-Beam Lithography [J]. Chemistry of Materials, 2010, 22(10): 3021-3023 |
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