Optimizing AlF3 atomic layer deposition using trimethylaluminum and TaF5: Application to high voltage Li-ion battery cathodes

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标题	Optimizing AlF3 atomic layer deposition using trimethylaluminum and TaF5: Application to high voltage Li-ion battery cathodes
网址	https://doi.org/10.1116/1.4943385
DOI	10.1116/1.4943385 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：David H. K. Jackson; Masihhur R. Laskar; Shuyu Fang; Shenzhen Xu; Ryan G. Ellis; et al 出版日期：2016
求助人	坦率的刺猬在 2026-03-18 15:41:40 发布自江苏，悬赏 10 积分
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