| 标题 |
 Silicon Surface Passivation by ALD-Ga2O3: Thermal vs. Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition 相关领域
钝化
原子层沉积
退火（玻璃）
硅
材料科学
分析化学（期刊）
氧化物
等离子体
饱和电流
图层（电子）
纳米技术
光电子学
化学
冶金
有机化学
物理
量子力学
电压
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Daniel Hiller; Jaakko Julin; Ahmed Chnani; Steffen Strehle 出版日期：2020-05-08 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
null
吃葡萄不吐葡萄皮
忧心的曼凝
秋风
闪闪的灵
无极微光
Maestro_S
嘻嘻哈哈
GingerF
cdercder
学霸业
云曦
Criminology34
aaaa
369ninja
Nole
奔跑
牧青
风吹麦浪
L77
皖公网安备34019202002308
