| 标题 |
Influence of AlN-Interlayer and Growth Parameters of Mo Electrode on AlN Piezoelectric Thin Films for FBAR 相关领域
材料科学
压电
薄膜
溅射
电极
图层(电子)
外延
复合材料
光电子学
微电子机械系统
衍射
沉积(地质)
谐振器
质量(理念)
溅射沉积
缓冲器(光纤)
电子工程
方向(向量空间)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊: 作者:Shaocheng Wu; Jiazhe Zhang; Yuhang Dou; Rongbin Xu; Daquan Yu 出版日期:2025-05-11 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)