| 标题 |
Quasi-non-volatile capacitorless DRAM based on ultralow-leakage edge-contact MoS2 transistors 相关领域
德拉姆
材料科学
晶体管
动态随机存取存储器
光电子学
泄漏(经济)
非易失性存储器
CMOS芯片
二硫化钼
纳米电子学
电压
电子线路
纳米技术
电气工程
阈值电压
电子工程
MOSFET
逻辑门
半导体
软错误
缩放比例
非易失性随机存取存储器
炸薯条
金属浇口
存储单元
GSM演进的增强数据速率
栅氧化层
集成电路
电容器
半导体器件
半导体存储器
低压
钼
场效应晶体管
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Nature Materials 作者:Saifei Gou; Yuxuan Zhu; Zhejia Zhang; Menglin Huang; Jinshu Zhang; et al 出版日期:2026-01-14 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)