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 Dynamic global model of Cl2/Ar plasmas: Applicability to atomic layer etching processes Cl2/Ar等离子体的动态全局模型：在原子层刻蚀过程中的适用性
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：T. Rasoanarivo; C. Mannequin; Fabrice Roqueta; Mohamed Boufnichel; A. Rhallabi 出版日期：2024-11-01 |
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