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 Novel Hybrid Organic–Inorganic Spin‐on Resist for Electron‐ or Photon‐Based Nanolithography with Outstanding Resistance to Dry Etching 用于基于电子或光子的纳米光刻的新型有机-无机杂化旋涂抗蚀剂，具有优异的抗干蚀刻性
相关领域
抵抗
材料科学
纳米光刻
干法蚀刻
蚀刻（微加工）
纳米技术
制作
医学
病理
替代医学
图层（电子）
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| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced Materials 作者：Erika Zanchetta; Gioia Della Giustina; Gianluca Grenci; Alessandro Pozzato; Massimo Tormen; et al 出版日期：2013-08-05 |
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