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标题
Structural and piezoelectric properties of AlN thin films grown by pressure gradient sputtering
压力梯度溅射生长AlN薄膜的结构和压电性能
相关领域
材料科学 溅射 压电 氮化物 基质（水族馆） 薄膜 表面粗糙度 表面光洁度 氮化铝 电介质 铝 复合材料 分析化学（期刊） 光电子学 纳米技术 化学 图层（电子） 色谱法 地质学 海洋学
网址
https://doi.org/10.35848/1347-4065/ac762f
AI链接 iop.orgdoi.org
DOI
10.35848/1347-4065/ac762f doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Yoshikazu Terai; Kengo Haraguchi; Ryo Ichinose; Hiroki Oota; Ken Yonezawa
出版日期：2022-06-06
求助人
Zach 在 2025-12-05 02:00:14 发布自内蒙古，悬赏 10 积分
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