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 Plasma-enhanced atomic layer deposition: Correlating O2 plasma parameters and species to blister formation and conformal film growth 等离子体增强原子层沉积：将O2等离子体参数和物种与泡罩形成和保形薄膜生长相关联
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等离子体
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Andreas Werbrouck; Kevin Van de Kerckhove; Diederik Depla; Dirk Poelman; Philippe F. Smet; et al 出版日期：2021-09-14 |
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