Effect of External Electric Field on Co Chemical Mechanical Polishing: A Reactive Molecular Dynamics Study

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标题	Effect of External Electric Field on Co Chemical Mechanical Polishing: A Reactive Molecular Dynamics Study 相关领域雷亚克夫电场抛光分子动力学化学机械平面化材料科学力场（虚构）化学化学物理纳米技术化学工程复合材料物理计算化学工程类原子间势量子力学
网址	https://doi.org/10.1021/acs.langmuir.5c02812
DOI	10.1021/acs.langmuir.5c02812 doi
其它	期刊：Langmuir 作者：Cheng Zhi Huang; Min Zhong; Wenhu Xu; Meirong Yi; Xiaobing Li; et al 出版日期：2025-08-20
求助人	hzz 在 2025-11-27 12:51:16 发布自浙江，悬赏 10 积分
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