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A 15 nm Thick Interlayer for Nanoscale Functional Patterning of Hard and Soft Materials |
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Emmanuel K. Nava; MaryAnne W. Gachema; Szu-Han Chen; Tobiloba E. Awoyemi; Shelley A. Claridge 出版日期:2026-01-23 |
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(2025-6-4)