| 标题 |
Negative-tone chemically-amplified resist development for high resolution hybrid lithography |
| 网址 | |
| DOI |
10.1016/j.mee.2004.02.052
doi
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| 其它 |
期刊:Microelectronic Engineering 作者:S. Landis; S. Pauliac; R. Hanawa; M. Suetsugu; M. Akita 出版日期:2004-06-01 |
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(2025-6-4)