| 标题 |
Chemistry-informed machine learning model for EUV photoresist development |
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| DOI |
10.1117/12.3049907
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| 其它 |
期刊: 作者:Taegyun Park; Eunkoo Lee; Sol Han; Sungwoo Hwang; Hong‐Joon Lee; et al 出版日期:2025-02-21 |
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(2025-6-4)