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Formation and stabilization of pyramidal etch hillocks on silicon {100} in anisotropic etchants: Experiments and Monte Carlo simulation |
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:A. J. Nijdam; E. van Veenendaal; H. M. Cuppen; J. van Suchtelen; M. L. Reed; et al 出版日期:2001-04-01 |
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