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标题
Phosphorous and boron doping of nc-Si:H thin films deposited on plastic substrates at 150 °C by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition
150℃热丝化学气相沉积塑料衬底上nc-Si：H薄膜的磷和硼掺杂
相关领域
材料科学 薄膜 掺杂剂 化学气相沉积 无定形固体 基质（水族馆） 兴奋剂 纳米晶材料 硼 分析化学（期刊） 聚萘二甲酸乙二醇酯 电阻率和电导率 碳膜 化学工程 复合材料 纳米技术 化学 聚合物 结晶学 有机化学 光电子学 电气工程 地质学 工程类 海洋学
网址
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.06.176
DOI
10.1016/j.tsf.2007.06.176 doi
其它 期刊：Thin Solid Films
作者：Sergej Filonovich; Miguel Ribeiro; A.G. Rolo; Pedro Alpuim
出版日期：2007-07-11
求助人
远远 在 2025-07-23 22:40:34 发布自江西，悬赏 10 积分
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