Correlation between etch pits formed by molten KOH+Na2O2 etching and dislocation types in heavily doped n+-4H–SiC studied by X-ray topography - 科研通

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标题	Correlation between etch pits formed by molten KOH+Na2O2 etching and dislocation types in heavily doped n+-4H–SiC studied by X-ray topography 用X射线形貌研究熔融KOH+Na2O2刻蚀形成的刻蚀坑与重掺杂n+-4H-SiC中位错类型的相关性相关领域蚀刻（微加工）位错材料科学兴奋剂结晶学线程（蛋白质序列） GSM演进的增强数据速率 X射线腐蚀坑密度矿物学复合材料化学光学光电子学物理计算机科学电信生物化学蛋白质结构图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2012.12.011
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2012.12.011 doi
其它	期刊：Journal of Crystal Growth 作者：Yongzhao Yao; Yukari Ishikawa; Yoshihiro Sugawara; Koji Sato; Katsunori Danno; et al 出版日期：2012-12-19
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