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标题
Impact of high-k metal oxide as gate dielectric on the certain electrical properties of silicon nanowire field-effect transistors: A simulation study
高k金属氧化物作为栅介质对硅纳米线场效应晶体管某些电学性能影响的模拟研究
相关领域
材料科学 纳米线 电介质 场效应晶体管 栅极电介质 硅纳米线 金属 光电子学 高-κ电介质 栅氧化层 氧化物 晶体管 纳米技术 电气工程 冶金 电压 工程类
网址
DOI
10.2298/fuee2304553d doi
其它 期刊:Facta universitatis - series Electronics and Energetics
作者:Sanat Kr. Das; Bibek Chettri; Prasanna Karki; Bhakta Kunwar; Pronita Chettri; et al
出版日期:2023-01-01
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何敏 在 2025-08-29 12:44:04 发布,悬赏 10 积分
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