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Nucleation studies of high-κ aluminum oxide and hafnium oxide thin films on silicon carbide by plasma-enhanced atomic layer deposition 等离子体增强原子层沉积碳化硅上高κ氧化铝和氧化铪薄膜的成核研究
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期刊:Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者:Bruno Galizia; Emanuela Schilirò; Patrick Fiorenza; S. Peters; Jakob Zessin; et al 出版日期:2025-02-21 |
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