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![]() Cu修饰的六角InN单层,一种基于第一性原理的SF6分解检测和清除的有前途的候选物
相关领域
单层
吸附
解吸
分子
六方晶系
化学物理
化学
材料科学
纳米技术
计算化学
物理化学
结晶学
有机化学
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其它 |
期刊:Journal of Hazardous Materials 作者:Dachang Chen; Xiaoxing Zhang; Ju Tang; Zhaolun Cui; Hao Cui 出版日期:2018-10-06 |
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