| 标题 |
 Etch Rate Uniformity Monitoring for Photoresist Etch Using Multi-channel Optical Emission Spectroscopy and Scanning Floating Harmonic Probe in an Inductively Coupled Plasma Reactor 在电感耦合等离子体反应器中使用多通道光发射光谱和扫描浮动谐振探针监测光致抗蚀剂腐蚀速率均匀性
相关领域
腐蚀坑密度
光刻胶
分析化学（期刊）
感应耦合等离子体
蚀刻（微加工）
化学
等离子体刻蚀
离子
材料科学
等离子体
纳米技术
图层（电子）
色谱法
物理
量子力学
有机化学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Sang‐Hun Lee; Sang-Hee Han; Jaehyeon Kim; Minsung Jeon; Heeyeop Chae 出版日期：2024-08-18 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
bc
归尘
冰魂
昏睡的蟠桃
顺心香菇
Auston_zhong
1111
back you up
我是站长才怪
pluto
斯寜
糟糕的铁锤
勤劳的忆寒
nvatk16
默默地读文献
月下独酌42
sutharsons
平常的毛豆
8R60d8
皖公网安备34019202002308
