Comparison of the Deposition Characteristics and Electrical Properties for La2O3, HfO2 and LHO Films

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标题	Comparison of the Deposition Characteristics and Electrical Properties for La2O3, HfO2 and LHO Films 相关领域材料科学沉积（地质）地质学沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.3938/jkps.53.3334
DOI	10.3938/jkps.53.3334 doi
其它	期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Woong-Sun Kim; Sang-Kyun Park; Dae-Yong Moon; Tae-Sub Kim; Byoung-Woo Kang; et al 出版日期：2008-12-15
求助人	浪者漫心在 2025-10-10 17:27:02 发布自湖南，悬赏 10 积分
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